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Nanofabrication Platform
in Nanotechnology Open Facilities

支援提供装置EQuipments


それぞれの装置の詳細欄をクリックしていただきますと、装置写真と仕様をご覧いただけます。

A群装置名 メーカー 機種 設備番号
設備詳細
高精細集束イオンビーム装置
high definition focused ion beam system
ZEISS社 ORION NanoFab FA-01
詳細
多元DC/RFスパッタ装置
multi-target DC/RF sputtering system
キヤノンアネルバ EB1100 FA-02
詳細
B群装置名 メーカー 機種 設備番号
設備詳細 
超高精細電子ビームリソグラフィー装置
ultra high definition electron beam lithography system
株式会社エリオニクス ELS-100T FB-03
詳細
集束イオンビーム誘起化学蒸着装置
focused ion beam induced chemical vapor deposition system
Carl Zeiss社 Nvision 40D with NPVE FB-04
詳細
深掘りエッチング装置
deep etching system
サムコ株式会社 RIE-400iPB-NP FB-05
詳細
リアクティブイオンエッチング装置
reactive ion etching system
サムコ株式会社 RIE-10NR-NP FB-06
詳細
RFスパッタ成膜装置(金属成膜用)
RF sputtering system (metal)
サンユー電子株式会社 SVC-700LRF  FB-07
詳細
RFスパッタ成膜装置(絶縁体成膜用)
RF sputtering system (oxide)
サンユー電子株式会社 SVC-700LRF  FB-08
詳細
C群装置名 メーカー 機種 設備番号
設備詳細 
電子ビームリソグラフィー装置
electron beam lithography system
日本電子株式会社 JSM6500F FC-10
詳細
集束イオンビーム装置
focused ion beam system
株式会社日立ハイテクサイエンス SMI2050 FC-11
詳細
リアクティブイオンエッチング装置
reactive ion etching system
サムコ株式会社 RIE-10NOU  FC-12
詳細
ナノ薄膜形成システム
(EB蒸着、アークプラズマ蒸着)
EB physical vapor deposition system
株式会社アルバック UEP-2000 OT-H/C FC-13
詳細
マスクアライナー
mask aligner
ミカサ株式会社 MA-10  FC-14
詳細
LED描画システム
LED drawing system
株式会社ピーエムティー PLS-1010  FC-15
詳細
イオンシャワーエッチング装置
ECR ion shower system
株式会社エリオニクス ELS-200ER  FC-16
詳細
ナノインプリント装置
nanoimprint system
Obducat社 Eitre 3 FC-17
詳細

ナノテクノロジー設備供用拠点

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘7-1
大阪大学超高圧電子顕微鏡センター内
TEL 06-6879-7941
(微細構造解析プラットフォーム)

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
大阪大学産業科学研究所内
TEL 06-6879-4654
(微細加工プラットフォーム)
TEL 06-6879-4309
(分子・物質合成プラットフォーム)