本文へスキップ

Nanofabrication Platform
in Nanotechnology Open Facilities

ナノインプリント装置Eitre 3  

ナノインプリント装置

Obducat社製 Eitre 3  

【仕様】

 熱・UVの両方式に対応
 試料サイズ:3inch

【特徴】
 UV(波長250〜450nm)と熱(室温〜200℃)を使って、最大3インチの微細パターンを転写可能な装置。
 エア加圧(最大50bar)なので基盤全面に均一に転写がすることができ、異物によるモールドの破損が少ない。


ナノテクノロジー設備供用拠点

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘7-1
大阪大学超高圧電子顕微鏡センター内
TEL 06-6879-7941
(微細構造解析プラットフォーム)

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
大阪大学産業科学研究所内
TEL 06-6879-4654
(微細加工プラットフォーム)
TEL 06-6879-4309
(分子・物質合成プラットフォーム)