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Nanofabrication Platform
in Nanotechnology Open Facilities

イオンシャワーエッチング装置ELS-200ER  

イオンシャワーエッチング装置

エリオニクス社製 ELS-200ER  

【仕様】

 ガス:CF4,Ar 
 ECR型イオン銃

【特徴】
 低加速電圧でも高い電流密度が得られるため、基盤へのダメージの少ないエッチング、表面クリーニングなどが可能です。半導体ウエハーのパターンエッチングなどに最適です。


ナノテクノロジー設備供用拠点

〒567-0047
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大阪大学超高圧電子顕微鏡センター内
TEL 06-6879-7941
(微細構造解析プラットフォーム)

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
大阪大学産業科学研究所内
TEL 06-6879-4654
(微細加工プラットフォーム)
TEL 06-6879-4309
(分子・物質合成プラットフォーム)