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Nanofabrication Platform
in Nanotechnology Open Facilities

LED描画システムPLS-1010 

LED描画システム

ピーエムティー社製 PLS-1010 

【仕様】

 DLPを使用したマスクレス描画装置
 描画方式がステップ&スキャン方式のため、 100mm×100mmの範囲を約10分で描画
 画分解能・0.5um、接合精度・±0.5um以下、
 重ね合わせ精度・±1um以下

【特徴】
 最高輝度のLEDとDMD(デジタルミラーデバイス)によりパターン生成する最小描画線幅0.54umの光描画装置。
 大型レーザーステージを装備し、4インチ全域を約1時間で描画(OFPR-5000レジストを用いる場合)


ナノテクノロジー設備供用拠点

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘7-1
大阪大学超高圧電子顕微鏡センター内
TEL 06-6879-7941
(微細構造解析プラットフォーム)

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
大阪大学産業科学研究所内
TEL 06-6879-4654
(微細加工プラットフォーム)
TEL 06-6879-4309
(分子・物質合成プラットフォーム)