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Nanofabrication Platform
in Nanotechnology Open Facilities

EB蒸着装置UEP-2000 OT-H/C

EB蒸着装置 

アルバック社製 UEP-2000 OT-H/C 

【特徴】
蒸発源として電子ビームを用いることで、蒸発させにくいPt, Au, Ni, Tiなどの金属薄膜の形成が可能。
微細構造を作製するために基板への斜入射蒸着を可能としており、また基板を冷却あるいは過熱する機能を備える。

【仕様】
高真空中で一度に4種類の金属薄膜形成が可能
試料サイズ:max 4 inch
EB蒸着ユニット


ナノテクノロジー設備供用拠点

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘7-1
大阪大学超高圧電子顕微鏡センター内
TEL 06-6879-7941
(微細構造解析プラットフォーム)

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
大阪大学産業科学研究所内
TEL 06-6879-4654
(微細加工プラットフォーム)
TEL 06-6879-4309
(分子・物質合成プラットフォーム)