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Nanofabrication Platform
in Nanotechnology Open Facilities

ナノ薄膜形成システムUEP-2000 OT-H/C

ナノ薄膜形成システム
(EB蒸着、アークプラズマ蒸着)

アルバック社製 UEP-2000 OT-H/C 

【仕様】

 高真空中で一度に4種類の金属薄膜形成が可能
 試料サイズ:max 4inch
  EB蒸着ユニット
  アークプラズマユニット

【特徴】
 蒸発源として電子ビームを用いることで、蒸発させにくいPt,Au,Ni,Tiなどの金属薄膜の形成が可能です。
 微細構造を作製するために基板への斜入射蒸着を可能としており、また基板を冷却あるいは過熱する機能を備えています。


ナノテクノロジー設備供用拠点

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘7-1
大阪大学超高圧電子顕微鏡センター内
TEL 06-6879-7941
(微細構造解析プラットフォーム)

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
大阪大学産業科学研究所内
TEL 06-6879-4654
(微細加工プラットフォーム)
TEL 06-6879-4309
(分子・物質合成プラットフォーム)