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Nanofabrication Platform
in Nanotechnology Open Facilities

リアクティブイオンエッチング装置RIE-10NOU 

リアクティブイオンエッチング装置

サムコ社製 RIE-10NOU 

【仕様】

 試料サイズ:max 8inch(20cm)
 プロセスガス:CF4, O2, Ar, N2, CHF3

【特徴】
 Si、Poly-Si、SiO2、Si3N4などの各種シリコン薄膜の高精度エッチングを目的としたRIE(リアクティブイオンエッチング)装置です。


ナノテクノロジー設備供用拠点

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘7-1
大阪大学超高圧電子顕微鏡センター内
TEL 06-6879-7941
(微細構造解析プラットフォーム)

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
大阪大学産業科学研究所内
TEL 06-6879-4654
(微細加工プラットフォーム)
TEL 06-6879-4309
(分子・物質合成プラットフォーム)