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Nanofabrication Platform
in Nanotechnology Open Facilities

集束イオンビーム装置SMI2050

集束イオンビーム装置

日立ハイテクサイエンス SMI2050

【仕様】

 ステージサイズ:2inch

    C銃, W銃装備, 電子銃:500eV

    加速電圧:30keV

    最小ビーム径:4nm

【特徴】
イオンビームを露光源とし線幅50nmの直接描画可能な露光装置。
レジストプロセスを必要とせず、直接サンプルを加工することが可能。
サンプルを削るだけでなく、ディポジションにより、3次元造形も可能。


ナノテクノロジー設備供用拠点

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘7-1
大阪大学超高圧電子顕微鏡センター内
TEL 06-6879-7941
(微細構造解析プラットフォーム)

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
大阪大学産業科学研究所内
TEL 06-6879-4654
(微細加工プラットフォーム)
TEL 06-6879-4309
(分子・物質合成プラットフォーム)