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Nanofabrication Platform
in Nanotechnology Open Facilities

電子ビームリソグラフィー装置JSM6500F

電子ビームリソグラフィー装置

日本電子製 JSM6500F

【特徴】
電子線を用いてレジストに直接微細なパターンを描画するための装置。
レジストパターンとして、30nm程度の微細なパターニングを行うことが可能。(実験条件によるものであり、保証するものではありません)

【仕様】
フィールドエミッション走査顕微鏡に描画システムを組み合わせた電子ビームリソグラフィー装置
加速電圧:30keV
試料サイズ:2 inch


ナノテクノロジー設備供用拠点

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘7-1
大阪大学超高圧電子顕微鏡センター内
TEL 06-6879-7941
(微細構造解析プラットフォーム)

〒567-0047
大阪府茨木市美穂ヶ丘8-1
大阪大学産業科学研究所内
TEL 06-6879-4654
(微細加工プラットフォーム)
TEL 06-6879-4309
(分子・物質合成プラットフォーム)